北航鄭詠梅教授課題組 Adv. Mater.：一種抗紫外線的非均勻潤濕性圖案表面
2023-07-20 來源：高分子科技
北京航空航天大學(xué)鄭詠梅課題組受細(xì)胞膜結(jié)構(gòu)的啟發(fā)，通過激光燒蝕多層結(jié)構(gòu)的涂層，設(shè)計(jì)了一種抗紫外線的非均勻潤濕性圖案表面（UPS）（圖1）。抗紫外線的超疏水二氧化硅圖案是在覆蓋著超親水二氧化鈦納米顆粒的表面上原位創(chuàng)建。基于二氧化鈦（TiO2）表面的UPS的紫外抵抗時(shí)間比其他需要掩模的表面分子修飾方法高出兩個(gè)數(shù)量級(jí)以上。UPS的細(xì)胞膜樣結(jié)構(gòu)調(diào)節(jié)了內(nèi)部硅氧烷鏈段在表面的親水和疏水區(qū)域的遷移。UPS可以使功能材料在紫外線照射下有效地形成圖案，控制開放系統(tǒng)中液體的潤濕行為（圖2）。此外，即使在強(qiáng)紫外線照射50h（365nm，500 mW cm?2）后，其非均勻潤濕性仍保持穩(wěn)定（圖3）。這些抗紫外線的非均勻潤濕圖案表面可能在未來應(yīng)用于微流體、細(xì)胞培養(yǎng)、能量轉(zhuǎn)換和水收集（圖4）。
圖1 UPS設(shè)計(jì)示意圖
圖2 UPS的液體行為調(diào)控
圖3 UPS的耐紫外特性
圖4 UPS功能性圖案應(yīng)用
原文鏈接：https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adma.202304080
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