近年來，熒光成像技術(shù)因其響應速度快、靈敏度高等特點而備受關(guān)注。然而，由于阿貝衍射極限效應的存在，傳統(tǒng)的熒光顯微成像技術(shù)在分辨率上具有一定的限制，也在一定程度上影響了其在精準成像領(lǐng)域中的應用研究。受激輻射損耗技術(shù) (Stimulated Emission Depletion Microscopy, STED)、隨機光學重建顯微技術(shù) (Stochastic Optical Reconstruction Microscopy, STORM) 等超高分辨成像技術(shù)的提出，為解決上述問題提供了思路和方法。其中，STED超高分辨成像技術(shù)已經(jīng)在生物醫(yī)學和材料科學領(lǐng)域中顯示出了巨大的應用前景。盡管目前STED技術(shù)的發(fā)展已經(jīng)比較成熟，但是關(guān)于STED成像材料的系統(tǒng)性研究及分析卻較少。
因此，香港科技大學唐本忠院士、西安交通大學黨東鋒及孟令杰教授等通過以下幾個方面系統(tǒng)綜述了熒光材料在STED成像方面的最新研究進展：
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1) STED技術(shù)工作機理；
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2) STED技術(shù)對熒光材料的基本要求；
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3) 目前報道的可應用于STED高分辨成像的材料體系 (無機熒光材料、熒光蛋白、傳統(tǒng)有機熒光材料、聚集誘導發(fā)光材料和有機熒光納米材料)，并探討了其在亞細胞器成像、動態(tài)追蹤及多技術(shù)聯(lián)用等方面的應用前景；
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4) 展望了熒光材料在STED成像中的發(fā)展趨勢及其所面臨的挑戰(zhàn)。
論文結(jié)合對STED技術(shù)的分析、材料構(gòu)效關(guān)系的分析及應用的探討，期待為STED高分辨成像材料的篩選及精確設(shè)計提供一定的指導。
圖1. STED高分辨熒光成像材料的種類及其應用。
上述工作近日以“Recent advances in luminescent materials for super-resolution imaging via stimulated emission depletion nanoscopy”為題發(fā)表在國際頂級化學期刊Chemical Society Reviews上 (2021, DOI: 10.1039/d0cs00676a)。文章的通訊作者分別為西安交通大學化學學院黨東鋒副教授、孟令杰教授和香港科技大學唐本忠院士，西安交通大學化學學院博士生胥艷子和徐若寒為該論文的共同第一作者。該工作也得到了國家自然科學基金、陜西省自然科學基礎(chǔ)研究計劃、陜西省創(chuàng)新能力支撐計劃、西安市科技局重點實驗室建設(shè)項目和西安交通大學基本科研業(yè)務費項目等的支持。
論文網(wǎng)址：https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2021/cs/d0cs00676a#!divAbstract
