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| 資料類型： |
PDF文件
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| 關鍵詞： |
金剛石膜 氮氣 生長速率 表面形貌 膜品質 EA-CVD方法 |
| 資料大小： |
126K |
| 所屬學科： |
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| 來源： |
來源網絡 |
| 簡介： |
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采用電子輔助化學氣相沉積法(EA-CVD)制備摻氮金剛石薄膜，研究了不同氮氣流量對金剛石膜的生長速率、表面形貌和膜品質的影響。實驗發現，在較低的氮氣流量下，金剛石膜的生長速率增加，在較高的氮氣流量下生長速率減小。利用SEM、Raman光譜、XPS等測試手段對樣品的表面形貌及品質進行了表征。結果表明，當氮氣流量為4sccm時金剛石膜的結晶比較完整；當氮氣流量為8sccm時生成與(100)面共存的“菜花狀”。氮氣流量的進一步增加，“菜花”表面(100)晶面顯露的數量明顯降低，非金剛石碳含量和氮雜質含量增加，金剛石膜的品質明顯下降。 |
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| 上傳人： |
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| 上傳時間： |
2007-07-11 14:32:37 |
| 下載次數： |
7018 |
| 消耗積分： |
2
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