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濺射氣壓對TbFeCo 磁光薄膜的光學常數(shù)的影響*

資料類型：

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關鍵詞：

磁控濺射 tbfeco 薄膜橢偏光譜光學常數(shù)

資料大小：

248K

所屬學科：

分子表征

來源：

2007年第六屆中國功能材料及其應用學術會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)

簡介：

利用直流磁控濺射制備了TbFeCo/Si薄膜，采用可變入射角全自動橢圓偏振光譜儀，測量了用磁控濺射法制備的TbFeCo/Si薄膜的光學常數(shù)，測量能量范圍為1.5～4.5eV。分析了不同氬氣壓強對磁控濺射制備的TbFeCo/Si磁光薄膜的光學常數(shù)的影響。實驗結果表明，在低能區(qū)域，樣品的所有光學常數(shù)均隨壓強增加而增加，受制備工藝影響較大。但在高能區(qū)域，光學常數(shù)隨壓強的變化相對說來不再明顯。

作者：

張勇，張晉敏，余平，田華

上傳時間：

2008-08-21 15:09:57

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