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氧分壓對反應磁控濺射ZrO2薄膜光學透射率的影響

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性能表征

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從氧空位、表面粗糙度及晶界三方面，討論了氧分壓對射頻反應磁控濺射ZrO2薄膜光學透射率的影響。結果表明，隨氧分壓增大，氧空位的減少使單斜相逐漸占優，缺氧狀況的改善使薄膜透射率逐漸升高；高氧分壓下，出現顆粒聚集現象，表面粗糙度大幅增加及晶粒的聚集長大，使薄膜透射率下降。

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2007-07-06 16:40:26

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